激光雷达、移动设备的3D成像、汽车和增强/虚拟现实或用于监控的夜视等应用依赖于短波红外(SWIR)光电探测器的开发。这些设备能够在我们眼睛看不见的光谱区域进行观察,因为它们在1-2µm的光谱窗口中工作
SWIR光传感器行业多年来一直以外延技术为主,主要基于砷化铟镓(InGaAs)器件。然而,高生产成本、低规模可制造性和与CMOS不兼容等因素将外延技术限制在利基市场和军事市场
相反,由胶体量子点(CQD)制成的SWIR光电探测器是一种纳米级半导体材料,近年来由于其吸引人的特性,如低成本和与CMOS架构的兼容性等,其潜力引起了人们的极大兴趣
虽然CQD正在成为InGaAs基器件的竞争对手技术,但重要的是要澄清当前基于CQD的SWIR光电探测器使用铅(Pb)和汞(Hg)硫属化物等成分。这两种元素都受欧洲有害物质限制指令(RoHS)的约束,该指令规定了它们在商业消费者应用中的使用
由于这一监管框架,迫切需要开发基于环保、无重金属CQD的SWIR光传感器
锑化铟(InSb)CQD在提供高性能和稳定性器件方面具有巨大潜力。此外,由于体InSb的低带隙,它们符合RoHS标准,可以访问整个SWIR范围。然而,到目前为止,由于InSb具有最强的共价性质,并且缺乏高反应性的前体,其合成已被证明是具有挑战性的。此外,先前的研究已经报道,由于Sb的强氧化倾向,InSb CQD在暴露于空气时是不稳定的
在ACS Nano上发表的一项研究中,ICFO的彭路成、王永杰、任玉荣、王卓然的研究人员,由ICFO的ICREA教授Gerasimos Konstantatos领导,与Erns Ruska电子显微镜和光谱学中心的曹鹏飞合作,描述了一种合成无砷InSb CQD的新方法,该方法可进入SWIR范围
他们的方法包括设计合成量子点的InSb/InP核壳结构,用于制造快速响应和高灵敏度的SWIR光电探测器
在这项新研究中,研究人员开发了一种新的合成工艺,通过使用商用化学前体生产具有尺寸均匀性的高质量宽光谱可调谐InSb量子点,克服了以前策略所遇到的一些障碍,包括具有挑战性的合成工艺和高表面缺陷密度
在他们的研究中,研究人员采用了“单一来源方法”,使用连续的前体注射过程,而不是热注射选项。该策略是获得InSb CQD的关键,InSb CQD具有良好控制的尺寸分布和在非常宽的光谱范围(900nm至1750nm)上的明显吸收
通过使用范围从220ºC到250ºC的反应温度,他们能够控制所得溶液处理薄膜中的点的位置。研究人员表示:“由此产生的从近红外到短波红外的光谱可调谐性,即从900 nm到1750 nm,是迄今为止InSb CQD的最大可调谐性。”
他们用透射电子显微镜(TEM)技术观察了处理后的CQD样品,并证实这些点的平均尺寸为2.4 nm、3.0 nm、3.5 nm、5.8 nm和7.0 nm,能够吸收不同的波长
研究人员还对InSb CQD的表面进行了表征,因为众所周知,它对CQD材料的光电性能至关重要。他们使用X射线光电子能谱研究了与表面未钝化的Sb悬挂键相关的Sb的氧化态,并可以证实在未保护的表面上形成了Sb氧化物
他们研究的下一步是开发一种钝化策略来覆盖所获得的InSb CQD,从而形成一个外壳来保护QCD免受氧化。用三氯化铟(InCl3)对InSbQCDs的表面进行了处理。这通过在纯化过程的以下步骤中减少缺陷并同时提高CQD的胶体稳定性来保护Sb的表面悬挂键
随后,研究人员在纯化的InSb CQD上生长了一层厚度较薄的磷化铟(InP)保护壳。他们使用油酸铟和膦甲硅烷基酰胺作为前体来生成外壳。这导致InSb CQD的吸收光谱发生显著的红移。随后通过光致发光光谱分析证实了InSb/InP核壳结构
“InSb/InP核壳结构意味着在原始材料(在这种情况下,InSb)的表面上生长另一种材料(在本例中,InP)与InSb相比,InP是一种更宽的带隙材料,它可以充分钝化InSb的表面陷阱,这在光电子器件中是有害的。此外,Sb元素对氧非常敏感,因此核壳结构可以大大提高材料的空气稳定性,”ICFO研究员、该研究的第一作者Lucheng Peng解释道。
制造更快、更灵敏的光电探测器
第一步完成后,研究人员开始使用优化的InSb/InP核壳CQD制造低温、高速SWIR光电探测器
Journal information: ACS Nano
Provided by ICFO
2024-10-28
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